纽约时装技术学院研究生留学全解析-赋能网

如今申请纽约时装技术学院研究生留学生的同学越来越多，深的众多艺术生的关注。那么问题来了，了解纽约时装技术学院研究生留学全解析?下面让我们看一下详情吧!

一、院校介绍

纽约时装技术学院(Fashion Institute of Technology，State University of New York)是国际著名的服装与艺术设计院校，成立于1944年，位于美国纽约市曼哈顿区。开设专业涉及如时装设计、广告设计、电脑动画及互动媒体、织物设计、室内设计、时装摄影、时尚产品管理等。

创始人莫蒂默(mortimer critter)希望学院成为“一座像麻省理工学院一样的设计学院”。因此经过不懈的努力，fit已经成为具有丰富的成功的历史，在纽约城市经济的冲击下仍然持久屹立的著名学府。

二、研究生专业

插画专业

艺术与技术的融合创造了机会和挑战，这意味着在专业上需要新的技术和新的观点。 FIT的插画硕士，帮助你成为一个创新的视觉传播者。这门课程适合那些喜欢插画，想要进一步发展他们个人兴趣的插画家，以及寻求重振自己的职业生涯的插画家。

全球时尚管理专业

FIT的全球时尚管理硕士专业进修学院(MPS)是为了国际时装界的时尚高管所设计的。 FIT与香港理工大学和巴黎de la Mode学院合作，提供三大洲间的交流机会。在每个校区的为期十天的密集研讨会中，你将获得对于国际时装企业各个环节、技术，和推动他们之间的相互关系的全面了解。该课程重点在领导力、跨文化理解和全球市场等领域。通过这些学习，毕业生将有能力组建及管理国际专业团队，并在由业务效率和盈利等国际问题带来的风险中领导企业度过难关。

展览设计专业

在艺术课程的展览设计研究生课程中，你将学习如何创造能够传达娱乐和激发他人的环境性体验。你会专注在设计师的角色以及与展览团队其他成员的关系，与此同时考虑到展览的各个方面，比如沟通、设计以及装配建造。

三、研究生申请要求

语言成绩

雅思：6.5分;托福：90分

申请材料

申请表、托福或雅思成绩、作品集、短文、简历、推荐信两封、可能需要面试

研究生作品集要求

展览设计：

20个设计作品，包括：AutoCad或Vectorworks草图;Illustrator、InDesign和Photoshop熟练运用;3D作品。提交手工创作和其他软件作品有加分。摄影、绘画、雕塑或其他媒介作品也可放入作品集。

插画：

提交15-20个作品。必须包含写生素描。图片格式为LOW-RES(72像素)。不符合要求的作品集不会被列入考虑。不接受幻灯片、原创作品或网站链接。